拓荊科技股份有限公司

成立于2010年4月，是國家技術企業，主要從事半導體專用設備的研發、生產、銷售與技術服務。公司在北京、上海、海寧、沈陽、美國成立子公司。公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個產品系列，擁有自主知識產權，技術指標達到國際同類產品先進水平，公司產品已廣泛應用于集成電路晶圓制造，以及TSV封裝、光波導、Micro-LED、OLED顯示等新技術領域。公司產品已進入北京、上海、武漢、合肥、天津、中國臺灣等20多個地區的60多條生產線，并設有技術服務中心，為客戶提供每周7天，每天24小時的技術服務。公司已形成一支國際化的專業團隊，具備高科技研發實力及管理經驗。通過多年技術積累，公司已建立自主知識產權的核心技術群及知識產權體系，被國家知識產權局評為“國家知識產權示范企業(2019-2022)”。公司總部坐落于沈陽市渾南區，擁有現代化辦公大樓及高等級潔凈廠房，總建筑面積達40,000平方米。目前公司生產能力可以滿足生產需求。公司已通過ISO9001、ISO14001、ISO45001體系的認證，并擁有覆蓋全球的供應商網絡。拓荊公司愿與業界伙伴建立真誠、友好、共贏的產業合作聯盟，為中國及世界半導體產業的發展做出貢獻。